日立(j)掺杂不同添加剂的钙钛矿薄膜的N1s光电子能谱。
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此外,全球还通过XRD、SEM和密度泛函理论研究了反应机理。互联(h)HVO的氮吸附-解吸等温线。图二、日立电化学性能研究(a)HVO电极在0.1mVs-1时的CV曲线。
源能源(d)Zn2p的XPS高分辨率光谱。图五、出席充放电过程研究(a-c)在各种放电/充电状态下的第一个循环中,HVO阴极的XRD分析。
全球HVO的反应策略适用于未来的水溶液锌离子电池的设计。
结果表明,互联优异的倍率性能源于插层赝电容行为。日立(e,f)基于biuret/triuret混合添加剂制备的钙钛矿薄膜的上表面SEM和横截面SEM照片。
(c)MAPbI3钙钛矿晶体在biuret添加剂帮助下的生长示意图,源能源(I)将biuret与钙钛矿前驱体混合,源能源(II)前驱体与添加剂形成PbI2 -biuret-MAI络合物,(III)添加剂吸附在晶核周围,持续吸引游离单体(MAI,PbI2)加速晶体生长,(IV)形成大晶粒钙钛矿并在晶界处残留添加剂。出席图3:器件结构与光电性能。
全球(器件结构分别为ITO/PTAA/(FAPbI3)0.85(MAPbBr3)0.15/PC61BM/Ag和ITO/NiO/CsPbI2Br/PC61BM/Ag。相反,互联triuret则更易于在钙钛矿表面聚集和吸附钙钛矿,形成树枝状钙钛矿中间层,这有利于电子从钙钛矿向电子传输层的传递和提升器件效率。